在光罩蚀刻制程中减少叠对误差之方法

摘要

本发明系关于一种用于减少光微影制程中重叠误差之方法，藉由提供含有一永久层而第一图样位于其中之基板，以光阻涂布于基板，将光阻曝光为第二图样，而在基板上复数个不同的第一位置测量温度，在光阻中形成第二图样，在基板上复数个不同的第二位置测量第一图样和第二图样间的重叠误差，在基板上的每个位置得出重叠误差和温度的关连性，判断重叠误差和温度间的关系，并因应所判断的关系调整至少一光微影制程的温度控制方式。