ＣＶＤ成膜装置

摘要

一种CVD成膜装置，系一边藉由加热机构将被载置于载置台22的晶圆W加热，一边在晶圆的表面使成膜用气体反应以藉由CVD在晶圆W上成膜特定膜的CVD成膜装置，又具备：盖罩构件24，具有母材24a与设置于母材之至少背面侧的低辐射率膜24b，以覆盖载置台22之晶圆W的外侧部分。