化学机械研磨垫及化学机械研磨方法

摘要

本发明有关一种化学机械研磨垫，该研磨垫之研磨面系具有由下列构成之2组沟群而成：（1）与自研磨面的中心朝向周边部之一条假想直线交叉之复数条第一沟所构成之第一沟群，该等复数条第一沟彼此间不互相交叉且具有第一沟宽，以及（2）与自研磨面的中心朝向周边部之一条假想直线交叉之复数条第二沟所构成之第二沟群，该等复数条第二沟彼此间不互相交叉、各第二沟与上述第一沟彼此不交叉，且具有与上述第一沟宽不同之第二沟宽，因而于该研磨面上互为相邻之两条第一沟的间隙中平均存在有一条或复数条该第二沟。