正型光阻组成物及图案形成方法

摘要

一种正型光阻组成物，其包括：(A)一种具有由通式(a1)表示之重复单元且因酸之作用增加其在硷显影剂中溶解度的树脂；(B)一种在以光似射线或辐射照射时产生酸之化合物；及(C)一种具有氟原子与矽原子至少之一且具有选自(x)、(y)与(z)之基的树脂；及(D)一种溶剂：(x)硷溶性基；(y)因硷显影剂之作用分解而增加树脂(c)在硷显影剂中溶解度之基；及(z)因酸之作用分解之基，#P 097110526P01.bmp其中R表示氢原子或甲基，Rxa表示烷基或环烷基，及n表示1至8之整数。