蚀刻剂及使用其制造包括薄膜电晶体电子元件方法

摘要

本具体实例系关于一种蚀刻剂及制造包括薄膜电晶体之电子元件之方法。蚀刻剂包括氟离子（F#sP!-#eP!）源、过氧化氢（H#sB!2#eB!O#sB!2#eB!）、硫酸盐、磷酸盐、以唑为基础之化合物及溶剂。蚀刻剂及制造包括薄膜电晶体之电子元件之方法可批次蚀刻包括铜层及钛或钛合金层之多层膜，且可以高良率提供具有优良图案轮廓之薄膜电晶体。当重新使用蚀刻剂时，可维持均匀蚀刻效能及具有蚀刻剂之长替换周期，且因此可节省成本。