发明名称 |
用于半导体材料处理设备之具有低微尘粒表现的喷淋头电极与喷淋头电极组件 |
摘要 |
一种用于半导体材料处理设备之喷淋头电极。喷淋头电极之一实施例包含彼此接合之上电极与下电极。上电极包含一或更多气室。下电极包含电浆暴露下表面及与气室呈流体连通的复数之气体孔。亦揭露包含喷淋头电极的喷淋头电极组件,该喷淋头电极挠性悬吊在上板上。喷淋头电极组件可与温度控制元件呈流体连通,俾控制喷淋头电极的温度,该温度控制元件在空间上与喷淋头电极隔开。在包含喷淋头电极组件之电浆处理室中处理基板的方法亦被揭露。 |
申请公布号 |
TW200902751 |
申请公布日期 |
2009.01.16 |
申请号 |
TW097111315 |
申请日期 |
2008.03.28 |
申请人 |
兰姆研究公司 |
发明人 |
安德里斯 费雪;罗金德 汉沙 |
分类号 |
C23C16/455(2006.01);H01L21/02(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/455(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
许峻荣 |
主权项 |
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地址 |
美国 |