于蚀刻大纵横比结构时用以降低微负载效应的方法

摘要

本发明提供一种在导电层中蚀刻不同纵横比之特征部的方法。该方法包含：利用纵横比相依沉积(aspect ratio dependent deposition)，在该导电层上方进行沉积；利用该导电层的纵横比相依蚀刻(aspect ratio dependent etehing)，蚀刻特征部进入该导电层内；以及重复该沉积步骤以及该蚀刻步骤至少一次。