| 摘要 |
<p>Zum Inspizieren einer Oberfläche (17) an einem Gegenstand (16) wird ein Muster (29) mit einer Vielzahl von helleren und dunkleren Bereichen (30, 31, 32, 33) bereitgestellt. Die Bereiche bilden einen ersten räumlichen Intensitätsverlauf (34) mit einer ersten räumlichen Periode (36). Der Gegenstand mit der Oberfläche wird relativ zu dem Muster positioniert, so dass der Intensitätsverlauf auf die Oberfläche fällt. Der Intensitätsverlauf wird relativ zu der Oberfläche um eine definierte Schiebedistanz (18) verschoben, wobei die Oberfläche entlang der Schiebedistanz (18) eine Vielzahl von unterschiedlichen Positionen relativ zu dem ersten Intensitätsverlauf einnimmt. Es wird eine Vielzahl von Bildern aufgenommen, die die Oberfläche mit dem ersten Intensitätsverlauf an den unterschiedlichen Positionen zeigen. In Abhängigkeit von den Bildern werden Eigenschaften der Oberfläche bestimmt. Gemäß einem Aspekt der Erfindung beinhaltet das Muster (29) eine Überlagerung von zumindest zwei verschiedenen Streifenmustern (26, 28), die gemeinsam auf die Oberfläche fallen. Ein erstes Streifenmuster (26) bildet den ersten räumlichen Intensitätsverlauf mit der ersten räumlichen Periode (36). Ein weiteres Streifenmuster (28) bildet einen weiteren räumlichen Intensitätsverlauf mit einer weiteren räumlichen Periode. Die zumindest zwei verschiedenen Streifenmuster (26, 28) werden vor dem Bestimmen der Eigenschaften der Oberfläche mit Hilfe einer Filterung getrennt. Die Eigenschaften der Oberfläche werden in Abhängigkeit von dem ersten und/oder in Abhängigkeit von dem weiteren Streifenmuster (26, 28) bestimmt.</p> |
