| 发明名称 | 一种用于化学机械抛光的抛光头 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于化学机械抛光的抛光头，包括：基座，所述基座下方边缘区域有环状凹槽；保持环隔膜，固定在所述基座的下方，与所述环状凹槽形成保持环腔室；保持环，通过所述保持环隔膜浮动于所述保持环腔室的下方，所述保持环在所述基座的正下方设置有口袋区域，用来容纳晶圆；多腔室隔膜，所述多腔室隔膜有盘状平面，其上集成有多个同心环状肋，所述盘状平面、同心环状肋与所述基座的下表面形成多个相互独立的同心环状腔室。本发明在抛光过程中，可通过同心环状腔室对晶圆背侧的不同区域施加不同的低下压力，从而获得较好的均匀性。 | ||
| 申请公布号 | CN101342679A | 申请公布日期 | 2009.01.14 |
| 申请号 | CN200810118704.3 | 申请日期 | 2008.08.19 |
| 申请人 | 清华大学 | 发明人 | 路新春;王同庆;朱煜;雒建斌 |
| 分类号 | B24B29/02(2006.01);B24B41/047(2006.01);H01L21/304(2006.01) | 主分类号 | B24B29/02(2006.01) |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人 | 张国良 |
| 主权项 | 1、一种用于化学机械抛光的抛光头，其特征在于，所述抛光头包括：基座，所述基座下方边缘区域有环状凹槽；保持环隔膜，固定在所述基座的下方，与所述环状凹槽形成保持环腔室；保持环，通过所述保持环隔膜浮动于所述保持环腔室的下方，所述保持环在所述基座的正下方设置有口袋区域，用来容纳晶圆；多腔室隔膜，所述多腔室隔膜有盘状平面，其上集成有多个同心环状肋，所述盘状平面、同心环状肋与所述基座的下表面形成多个相互独立的同心环状腔室。 | ||
| 地址 | 100084北京市海淀区清华园北京100084－82信箱 | ||