发明名称 放射性氟标记化合物的制备方法
摘要 本发明提供了一种制备<SUP>18</SUP>F-FDG的方法,其可以高而稳定的合成收率制备<SUP>18</SUP>F-FDG。该放射性氟标记化合物的制备方法包括以下步骤:在气密条件下,将TATM和惰性有机溶剂添加到含有[<SUP>18</SUP>F]氟化物离子、相转移催化剂和钾离子的混合物中制备反应溶液;在气密条件下给予该反应溶液反应条件以得到<SUP>18</SUP>F-TAFDG;以及使得到的<SUP>18</SUP>F-TAFDG进行脱保护处理以及任选的纯化处理以得到<SUP>18</SUP>F-FDG。
申请公布号 CN101346391A 申请公布日期 2009.01.14
申请号 CN200680048918.7 申请日期 2006.11.30
申请人 日本医事物理股份有限公司 发明人 平野圭市;中村大作
分类号 C07H5/02(2006.01);C07B61/00(2006.01);A61K51/00(2006.01) 主分类号 C07H5/02(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 陈昕
主权项 1.放射性氟标记化合物的制备方法,其包括以下步骤:通过在气密条件下将1,3,4,6-四-O-乙酰基-2-O-三氟甲磺酰基-β-D-吡喃甘露糖和惰性有机溶剂添加到含有[18F]氟化物离子、相转移催化剂和钾离子的混合物中制备反应溶液;在气密条件下给予所述反应溶液反应条件,以得到1,3,4,6-四-O-乙酰基-2-[18F]氟-2-脱氧葡萄糖;以及使得到的1,3,4,6-四-O-乙酰基-2-[18F]氟-2-脱氧葡萄糖进行脱保护处理以得到2-[18F]氟-2-脱氧-D-葡萄糖。
地址 日本东京