发明名称 一种用于手机保护屏类的塑料基体上镀锡工艺
摘要 本发明涉及一种用于手机保护屏类的塑料基体上镀锡工艺,其特征在于:工艺可分为如下几个步骤:1.1抽真空:指对镀膜设备进行抽气,使之达到预期的3.0E-3Pa真空度;上架:指将客户需求尺寸的板材装到基片架上;1.2预靶:指对新装上的靶材进行表层剥离,清洁,使之达到与靶材内部一样的状态,具体可以通过预靶后期的电压稳定性来判断;1.3加热:指基体或待镀材料通过进料室、缓冲室时对其进行加热,使其表面吸附的杂质气体释放干净,达到镀膜前所需的表面状态;1.4镀膜:指应用在磁场作用下控制靶材的电流电压对基体进行镀膜;下架:指将板材从基片架上卸下来;1.5出片:指完成镀膜后从出料室出来。本发明工艺合理,镀膜电源的稳定、抽气能力的稳定性,镀膜的透光性好,膜与基体的紧密性好。
申请公布号 CN101343730A 申请公布日期 2009.01.14
申请号 CN200810059530.8 申请日期 2008.01.31
申请人 杭州博纳特光电科技有限公司 发明人 赵斌通;张双文;崔龙范;宋光耀
分类号 C23C14/35(2006.01);C23C14/14(2006.01);C23C14/54(2006.01) 主分类号 C23C14/35(2006.01)
代理机构 杭州赛科专利代理事务所 代理人 陈辉
主权项 1、一种用于手机保护屏类的塑料基体上镀锡工艺,其特征在于:工艺可分为如下几个步骤:抽真空---→上架---→预靶---→加热---→镀膜---→下架---→出片;1.1抽真空:指对镀膜设备进行抽气,使之达到预期的3.0E-3Pa真空度;上架:指将客户需求尺寸的板材装到基片架上;1.2预靶:指对新装上的靶材进行表层剥离,清洁,使之达到与靶材内部一样的状态,具体可以通过预靶后期的电压稳定性来判断;1.3加热:指基体或待镀材料通过进料室、缓冲室时对其进行加热,使其表面吸附的杂质气体释放干净,达到镀膜前所需的表面状态;1.4镀膜:指应用在磁场作用下控制靶材的电流电压对基体进行镀膜,需要有真空度或镀膜时压力、气体等因素的保证;下架:指将板材从基片架上卸下来;1.5出片:指完成镀膜后从出料室出来。
地址 310030浙江省杭州市西湖经济开发区西园四路2号