| 发明名称 | 人眼高阶像差矫正方法 | ||
| 摘要 | 人眼高阶像差矫正方法，其特征在于包括下列步骤：(1)采用人眼像差测量设备精确测量人眼的各阶像差，获取人眼像差数据；(2)根据人眼像差数据优化设计像差矫正函数；(3)根据设计的人眼像差矫正函数对光刻掩模进行设计，并根据设计制作掩模板；(4)采用制作的掩模对抗蚀剂进行曝光，显影后即可获得抗蚀剂材质的微浮雕结构；(5)以该微结构为母板，采用复制工艺将微结构转移至适于人眼佩带的隐形眼镜材料表面。本发明不仅可用于人眼低阶像差矫正，而且可以矫正人眼高阶像差，改善视觉效果。尤其适合于近视、老花、散光等多种并发症并存的情况。 | ||
| 申请公布号 | CN100451734C | 申请公布日期 | 2009.01.14 |
| 申请号 | CN200410009115.3 | 申请日期 | 2004.05.24 |
| 申请人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明人 | 董小春;杜春雷;邱传凯;赵泽宇;高洪涛;饶学军;张雨东 |
| 分类号 | G02C7/04(2006.01);A61B3/00(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | G02C7/04(2006.01) |
| 代理机构 | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人 | 刘秀娟;成金玉 |
| 主权项 | 1、人眼高阶像差矫正方法，其特征在于包括下列步骤：(1)采用人眼像差测量设备精确测量人眼的各阶像差，获取人眼像差数据；(2)根据人眼像差数据优化设计像差矫正函数；(3)根据设计的人眼像差矫正函数对光刻掩模进行设计，并根据目标微浮雕数据确定半色调掩模的量化精度，将人眼像差数据一对一转换为掩模灰度数据，最后确定制作掩模板的工艺参数，制作掩模板；(4)采用制作的掩模板对抗蚀剂进行曝光，显影后即可获得抗蚀剂材质的微浮雕结构；(5)以该微浮雕结构为母板，采用复制工艺将微浮雕结构转移至适于人眼佩带的隐形眼镜材料表面。 | ||
| 地址 | 610209四川省成都市双流350信箱 | ||