发明名称 |
基底载体及其制造基底载体的方法 |
摘要 |
一种构造成分别支撑光刻基底和光刻构图装置的载体,包括:设有敞开的中空结构的第一部件,所述敞开的中空结构向所述第一部件的至少一侧敞开。载体还包括:与第一部件连接的第二部件,这样,在所述第一和第二部件之间形成封闭的中空内部结构;以及定位于第一部件和第二部件之间的第三部件,第三部件具有在其两相对侧敞开的中空结构。本发明还提供一种包括上述载体的光刻装置和一种用于制造分别支撑光刻基底和光刻构图装置的载体的方法。 |
申请公布号 |
CN100451834C |
申请公布日期 |
2009.01.14 |
申请号 |
CN200410045195.8 |
申请日期 |
2004.04.22 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
N·J·吉里森;J·J·奥特坦斯;H·K·范德肖特;P·M·H·沃斯特斯 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
1.一种构造成分别支撑光刻基底(W)和光刻构图装置(MA)的载体(10),它包括:设有敞开的中空结构的第一部件,所述敞开的中空结构向所述第一部件的至少一侧敞开,其中,所述载体(10)还包括:与第一部件连接的第二部件,这样,在所述第一和第二部件之间形成封闭的中空内部结构;以及定位于第一部件和第二部件之间的第三部件,第三部件具有在其两相对侧敞开的中空结构。 |
地址 |
荷兰维尔德霍芬 |