发明名称 |
液体喷洒装置 |
摘要 |
一种液体喷洒装置,用于清洗、显影或蚀刻等湿制作过程,该液体喷洒装置包括具有中空内舱的壳体,多个垂直地设于内舱上侧的输送管,多个设于每一输送管下端的喷嘴,一用来带动多个输送管的连接装置以使多个喷嘴同时朝一被带动方向喷洒液体,及一固定于壳体内的驱动装置用来驱动连接装置,内舱底侧设有底座用来水平地放置基板,驱动装置可带动连接装置以朝不同的方向往复运动,使多个喷嘴可朝不同的方向将液体喷洒至基板上。 |
申请公布号 |
CN100451843C |
申请公布日期 |
2009.01.14 |
申请号 |
CN00101145.6 |
申请日期 |
2000.01.21 |
申请人 |
友达光电股份有限公司 |
发明人 |
林育民 |
分类号 |
G03F7/30(2006.01);G03D5/04(2006.01);B05B9/03(2006.01);B05B3/18(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/30(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
王景刚 |
主权项 |
1.一种液体喷洒装置,其包括有:一壳体,其包括有一中空的内舱,该内舱的底侧设有一底座用来水平地放置一基板;多个输送管,垂直地设于该内舱的上侧,每一输送管的下端设有一喷嘴,用来向下喷洒一特定的液体;一连接装置,固定于该多个输送管之上,用来带动该多个输送管的喷嘴以使该多个喷嘴得以同时向一被带动的方向喷洒该液体;以及一驱动装置,固定于该壳体内,该驱动装置可沿第一水平方向或是与该第一水平方向相垂直的第二水平方向往复地驱动该连接装置以使该液体可由该第一或第二水平方向往复地喷洒至该基板上。 |
地址 |
台湾省新竹市科学工业园区 |