| 主权项 |
1、一种测量掩模台相对于工件台旋转度的方法，使用的光刻机系统包括：照明光源系统，投影物镜成像系统，掩模台，工件台和位于工件台上的能量传感器；所述掩模台支撑并固定掩模版，所述工件台支撑并固定硅片；所述掩模上具有沿X轴方向排列的标记图形A和图形A’，以及沿Y轴方向排列的标记图形B和图形B’，其特征在于，所述方法包括如下步骤：1)通过光刻机系统，使掩模上的标记图形A和图形A’投影成像，由能量传感器分别在标记图形A和图形A’的理想成像位置处进行n次光强采样，平均光强采样值作为最大参考光强，能量传感器分别从标记图形A和图形A’的理想成像位置处开始Y向步进搜索探测，当能量传感器探测到对应于明暗转化位置的目标光强强度时，记录当前工件台位置，由两处记录得到的工件台位置计算得到掩模相对于工件台的旋转度；2)移动工件台使能量传感器位于零位，能量传感器进行n次采样，平均光强采样值作为最大参考光强，掩模台沿Y向运动，分别使掩模上的标记图形B和图形B’投影成像，能量传感器分别从标记图形B和图形B’的理想成像位置零位开始X向步进搜索探测，当能量传感器探测到对应于明暗转化位置的目标光强强度时，记录当前工件台位置，由两处记录得到的工件台位置计算得到掩模相对于掩模台的旋转度；3)由掩模相对于工件台的旋转度和掩模相对于掩模台的旋转度计算得到掩模台相对于工件台的旋转度。 |
