| 摘要 |
<p>Um ein bekanntes Verfahren zur Herstellung eines Verbundkörpers aus einem Basiskörper aus opakem Quarzglas und einer dichten Versiegelungsschicht dahingehend zu optimieren, dass der Basiskörper mit der dichten Versiegelungsschicht versehen werden kann, ohne dass es zu nennenswerten Veränderungen und Verformungen des opaken Materials kommt, wird erfindungsgemäß ein Verfahren vorgeschlagen, das folgende Verfahrensschritte umfasst: (a) Herstellen des Basiskörpers unter Einsatz eines ersten Schlickers, der größere amorphe SiO<SUB>2</SUB>-Teilchen enthält, (b) Bereitstellen eines zweiten Schlickers, der kleinere amorphe SiO<SUB>2</SUB>-Teilchen enthält und dessen Zusammensetzung sich von derjenigen des ersten Schlickers mindestens darin unterscheidet, dass er SiO<SUB>2</SUB>-Nanoteilchen im Bereich zwischen 0,2 Gew.-% bis 15 Gew.-% enthält und der durch eine relativ niedrige Verglasungstemperatur charakterisiert ist, (d) Erzeugen einer Schlickerschicht aus dem zweiten Schlicker auf einer Oberfläche des Basiskörpers, Trocknen der Schlickerschicht und (e) anschließendes Verglasen der Schlickerschicht unter Bildung der dichten Versiegelungsschicht.</p> |
