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发明名称
制造半导体元件之方法
摘要
一种制造电容器之方法,该方法包含:在基板的上方部分上形成具有复数个沟槽的牺牲层;在该沟槽中形成储存节点;藉由移除该牺牲层之一部份来露出该储存节点之上方部分;形成支撑部,藉以支撑该储存节点之露出的上方部分;移除在该支撑部下方的该牺牲层;以及移除该支撑部。
申请公布号
TW200901387
申请公布日期
2009.01.01
申请号
TW096150496
申请日期
2007.12.27
申请人
海力士半导体股份有限公司
发明人
李起正;卢载盛;廉胜振;宋翰相;吉德信;金荣大;金珍赫;都官佑
分类号
H01L21/8242(2006.01)
主分类号
H01L21/8242(2006.01)
代理机构
代理人
何金涂;丁国隆
主权项
地址
南韩
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