蚀刻溶液、半导体基板之表面处理方法以及形成浅沟渠隔离之方法

摘要

一种蚀刻溶液、半导体基板之表面处理方法以及形成浅沟渠之方法。此蚀刻溶液系用以进行半导体基板之表面处理，此蚀刻溶液包括一氧化剂以及一氧化物移除剂。氧化剂系用以氧化半导体基板为一半导体氧化物。氧化物移除剂用以移除上述之半导体氧化物。