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发明名称
蚀刻方法及装置与被处理物
摘要
本发明可抑制矽蚀刻之处理不均,以提高均一性。本发明系于约大气压下,一面将含有氟化氢及臭氧之处理气体自喷出部41喷至被处理物10上,一面使包含喷出部41之处理头39相对于被处理物10左右往复或单程移动,将形成于被处理物10表面之矽蚀刻。将上述移动速度设定为特定值以上,较好的是设定为3~4 m/min以上,以使形成于被处理物10表面上之凝结层18的厚度t为特定值以下。
申请公布号
TW200901310
申请公布日期
2009.01.01
申请号
TW097106278
申请日期
2008.02.22
申请人
积水化学工业股份有限公司
发明人
大塚智弘;石井彻哉;中岛节男
分类号
H01L21/3065(2006.01)
主分类号
H01L21/3065(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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