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发明名称
压缩邻接于半导体工件之封装材料的系统以及方法
摘要
本发明揭示一种压缩邻接于半导体工件之封装材料的系统以及方法。一种根据一态样之方法包括将一半导体工件及一封装材料置于一模穴中,且从该模穴驱动一些封装材料至溢流室内。该方法可进一步包括经由施加至该溢流室中之该封装材料的压力,来施加压力至该模穴中之该封装材料。
申请公布号
TW200901340
申请公布日期
2009.01.01
申请号
TW097106280
申请日期
2008.02.22
申请人
美光科技公司
发明人
华伦M 范沃斯
分类号
H01L21/56(2006.01);H01L21/50(2006.01)
主分类号
H01L21/56(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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