于半导体元件中形成细微图案之方法

摘要

一种于半导体元件中形成细微图案之方法包含：形成蚀刻停止层及牺牲层于蚀刻目标层上方；形成多个光阻图案于该牺牲层上方；藉由使用该等光阻图案作为蚀刻障壁蚀刻该牺牲层，以形成多个牺牲图案；于该等牺牲图案之二侧壁上形成多个间隙；移除该等牺牲图案；及藉由使用该间隙作为蚀刻障壁，蚀刻该蚀刻停止层及该蚀刻目标层。