制造太阳能电池之方法及所制得之太阳能电池

摘要

本发明系关于一种由矽基板(4)制造太阳能电池(20)之方法，其中首先施覆一第一抗反射涂层(2,5)到正面及背面，该第一抗反射涂层具有介于3.6至3.9之间的光学折射率n。其后施覆一第二抗反射涂层(1,6)到该第一抗反射涂层，该第二抗反射涂层具有介于1.94至2.1之间的光学折射率n。为了对该矽基板(4)导入相同的金属接点(7,9)，将该等抗反射涂层(1,2,5,6)分离深达下层矽基板(4)。