发明名称 High hole mobility semiconductor device
摘要 One embodiment of the invention includes a high hole mobility p-channel GaAsySb1-y quantum well with a silicon substrate and an InxAl1-xAs barrier layer.
申请公布号 US2009001350(A1) 申请公布日期 2009.01.01
申请号 US20070823516 申请日期 2007.06.28
申请人 HUDAIT MANTU K;DATTA SUMAN;CHAU ROBERT S;RADOSAVLJEVIC MARKO 发明人 HUDAIT MANTU K.;DATTA SUMAN;CHAU ROBERT S.;RADOSAVLJEVIC MARKO
分类号 H01L29/12;H01L21/20 主分类号 H01L29/12
代理机构 代理人
主权项
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