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经营范围
发明名称
化学机械抛光之维持环及其制造方法
摘要
一种化学机械抛光之维持环,包括环体以及耐磨单晶颗粒;环体包含顶面、底面及内表面,内表面系在顶面与底面之间且与底面垂直,用以固定晶圆;耐磨单晶颗粒埋设于环体并于环体之底面外露出平面,用以抵抗环体之磨耗;俾藉维持环设计以达到抗磨耗并延长使用寿命之功用。
申请公布号
TW200901298
申请公布日期
2009.01.01
申请号
TW096123810
申请日期
2007.06.29
申请人
蔡丽卿;黄凯;杨明达
发明人
蔡丽卿;黄凯;杨明达
分类号
H01L21/304(2006.01);B24B37/04(2006.01)
主分类号
H01L21/304(2006.01)
代理机构
代理人
李文贤
主权项
地址
台北县中和市永和路128巷23号4楼
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