发明名称 化学机械抛光之维持环及其制造方法
摘要 一种化学机械抛光之维持环,包括环体以及耐磨单晶颗粒;环体包含顶面、底面及内表面,内表面系在顶面与底面之间且与底面垂直,用以固定晶圆;耐磨单晶颗粒埋设于环体并于环体之底面外露出平面,用以抵抗环体之磨耗;俾藉维持环设计以达到抗磨耗并延长使用寿命之功用。
申请公布号 TW200901298 申请公布日期 2009.01.01
申请号 TW096123810 申请日期 2007.06.29
申请人 蔡丽卿;黄凯;杨明达 发明人 蔡丽卿;黄凯;杨明达
分类号 H01L21/304(2006.01);B24B37/04(2006.01) 主分类号 H01L21/304(2006.01)
代理机构 代理人 李文贤
主权项
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