发明名称 微影装置及方法
摘要 本发明揭示一种器件制造方法,其包括使用一照明系统来调节一辐射光束。该调节包括控制该照明系统之一个别可控元件阵列及关联光学组件,以将该辐射光束转换成一所要照明模式,该控制包括根据一分配方案来将不同个别可控元件分配至该照明模式之不同部分,该分配方案经选择以提供该照明模式、该辐射光束或该照明模式及该辐射光束两者之一或多个性质的一所要修改。该方法亦包括在该辐射光束之横截面中利用一图案来图案化该辐射光束以形成一经图案化辐射光束,及将该经图案化辐射光束投影至一基板之一目标部分上。
申请公布号 TW200900874 申请公布日期 2009.01.01
申请号 TW097109495 申请日期 2008.03.18
申请人 ASML荷兰公司 发明人 汉尼 麦勒 莫德;乔汉那 约克伯 马修 贝索曼;艾德瑞纳 法兰西卡斯 佩勒斯 安捷伦;马可斯 法兰西斯 安东尼奥斯 俄林斯;亨得瑞克 罗伯特 马连 凡 葛瑞柏克;派西斯 阿若瑟斯 约克伯 提那曼斯;保罗 凡 德 范恩;沃佛瑞德 爱德华 艾登迪杰克
分类号 G03F7/20(2006.01);G03B27/72(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰