发明名称 |
光学系统,特别是微影投影曝光装置的照明系统或投影物镜 |
摘要 |
本发明系关于一光学系统,特别是微影投影曝光装置的照明系统或投影物镜,包含:至少一个极化影响光学排列(200、400、550),该极化影响光学排列具有至少二个以光学地活性材料制成之极化影响光学元件(210、220),其中,至少一个该极化影响元件(210、220)被可旋转地安置。 |
申请公布号 |
TW200900867 |
申请公布日期 |
2009.01.01 |
申请号 |
TW096148846 |
申请日期 |
2007.12.20 |
申请人 |
卡尔蔡司SMT股份有限公司 |
发明人 |
迪克曼;费欧卡 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);G02B27/28(2006.01);G02B26/00(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林秋琴;何爱文 |
主权项 |
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地址 |
德国 |