微影蚀刻的投影曝光仪器之照明系统

摘要

一种微影蚀刻投影曝光装置之照射系统，其包含至少一透射滤光片(transmission filter)(66；166；266；366；466；566；666；666'；766；766'；866；866')，其至少在两位置上具有不同透射比(transmittance)，且置于一光瞳面(42，60)与一光场面(52，58)之间。该透射比分布被决定，使其对于椭圆率具有光场相依性的校正效应。在某些实施例中，远心(telecentricity)性质及/或辐射均匀性不受到该校正之影响。