关于监控在微影蚀刻投影曝光设备之照明系统中的复数个反射镜排置情形的程序与装置

摘要

一种微影光蚀刻投影曝光设施(10)之照射系统(12)，其具有一光瞳面及本质上平面配置之较佳为个别地可驱动的一光束偏移元件(28)，其适用于光瞳面之可变的照射形式。每个光束偏移元件(28)允许入射于其上之一投射光束(32)的偏移，以施加于光束偏移元件(28)之一控制讯号之函数而达成。一量测照射仪器(54，56，58，60；88；90；98)独立于投射光束(32)，导引一量测光束(36)至一光束偏移元件(28)上。在其被该光束偏移元件(28)偏移后，一侦测仪器记录该量测光束(38)。一评估单元由该侦测仪器提供之量测讯号决定投射光束(32)的偏移。