发明名称 | 原子层沈积系统及方法 | ||
摘要 | 利用原子层沉积(ALD)以沉积薄膜之系统及方法。沉积系统包含具有周围侧壁之处理腔室;处理腔室中之处理空间分割成至少第一及第二隔间的分隔部;及于处理空间中支撑基板之承盘。承盘相对于静止的周围侧壁及隔间旋转基板。第一隔间容纳用于在各基板之上沉积一层之处理材料。注入处理材料之注入器穿过周围侧壁连接第一隔间。 | ||
申请公布号 | TW200900527 | 申请公布日期 | 2009.01.01 |
申请号 | TW097103865 | 申请日期 | 2008.02.01 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 安东尼 迪普 |
分类号 | C23C16/455(2006.01);C23C16/54(2006.01);H01L21/67(2006.01) | 主分类号 | C23C16/455(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 周良谋;周良吉 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |