| 摘要 |
光电产业制造过程中需要有玻璃基板洗净、光阻剂涂布、ITO导电薄膜溅镀、曝光显影等制造过程，各个工作步骤需要经常以纯水或超纯水清洗玻璃基板，将空气中附着于玻璃的尘粒或制程中所产生的化学副产物清洗掉，清洗机（Cleaner）中的纯水或超纯水（以下通称超纯水）会逐渐溶入清洗玻璃所产生尘埃微粒和其它杂质，超纯水被污染，不但影响对玻璃基板清洗的洁净效果，更影响产品成品之良率。微生物在超纯水的滋长，污染了原本清洗后该洁净的玻璃基板，因此，超纯水的灭菌已成为影响产品良率之关键技术。添加化学药剂消毒会污染基板是不可行，因此以电浆（等离子体、臭氧）杀菌是本发明的关键技术之一。利用臭氧混入水中达到杀菌效果，却不影响基板上面化学薄膜的稳定性，并辅以循环水过滤装置，使超纯水能维持长时间的无菌与高洁净度，不但可以节省用水也可维持玻璃基板清洗机作业后的成品良率。 |
