发明名称 |
用于通过气相沉积工艺制造光纤预制件的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种方法,用于通过气相沉积工艺来制造光纤预制件,其中在一个沉积阶段和下一个或多个沉积阶段之间执行中间步骤,该中间步骤包括向中空衬底管的供给侧提供蚀刻气体。 |
申请公布号 |
CN101333067A |
申请公布日期 |
2008.12.31 |
申请号 |
CN200810127354.7 |
申请日期 |
2008.06.27 |
申请人 |
德雷卡通信技术公司 |
发明人 |
J·A·哈特休克;I·米利塞维克;M·J·N·范斯特拉伦;R·H·M·德克尔斯;M·科斯滕 |
分类号 |
C03B37/018(2006.01) |
主分类号 |
C03B37/018(2006.01) |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 |
代理人 |
朱海波 |
主权项 |
1.一种用于通过气相沉积工艺制造光纤预制件的方法,所述方法包括以下步骤:i)提供具有供给侧和排放侧的中空玻璃石英衬底管,ii)经由所述中空衬底管的所述供给侧向所述中空衬底管的内部提供掺杂或未掺杂的玻璃成形气体,iii)在所述中空衬底管的所述内部中创造温度和等离子体条件,从而在所述中空衬底管的内表面上沉积玻璃层,所述沉积包括多个独立阶段,每个阶段具有初始折射率值以及最终折射率值并且在特定时间周期期间在所述中空衬底管的内侧上包括多个玻璃层的沉积,所述等离子体在所述中空衬底管的所述供给侧附近的反转点和所述排放侧附近的反转点之间沿着所述中空衬底管的纵向轴线前后移动,以及可能地iv)将在步骤iii)之后获取的所述衬底管固化为所述预制件,其特征在于所述中空衬底管的所述内表面上的所述玻璃层沉积通过执行至少一个中间步骤在步骤iii)期间被中断,所述中间步骤包括向所述中空衬底管的所述供给侧提供蚀刻气体,同时在所述中间步骤期间停止掺杂或未掺杂的玻璃成形气体的供给,并且在所述中间步骤终止之后,所述沉积工艺可能继续。 |
地址 |
荷兰阿姆斯特丹市 |