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发明名称 Method for forming an oxide layer on semiconductor wafers
摘要
申请公布号 EP1104012(B1) 申请公布日期 2008.12.31
申请号 EP20000204178 申请日期 2000.11.23
申请人 ASM INTERNATIONAL N.V. 发明人 VERMEULEN, WILLEM JOB CORNELIS;PHILIPPSEN, BENGT;WIERTS, ERIK;BEULENS, JACOBUS JOHANNES;OOSTERLAKEN, THEODORUS GERARDUS MARIA
分类号 C23C16/40;H01L21/316;C23C16/448;C23C16/52;H01L21/00;H01L21/31 主分类号 C23C16/40
代理机构 代理人
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