发明名称 | 流体喷射装置 | ||
摘要 | 本发明为一种流体喷射装置及其制造方法,其中流体喷射装置包括:一基底;一形成于该基底上的结构层;一歧管,该歧管设置于该基底中,以供应流体;多个具有相同长度的流体腔,所述多个具有相同长度流体腔形成于该基底与该结构层之间并与该歧管连通,以容纳要喷射的流体;以及多个喷孔,所述多个喷孔穿过该结构层并与所述多个流体腔连通,以喷射流体,其中该所述多个喷孔与该歧管的距离大体不同。本发明还包括流体喷射装置的制造方法。 | ||
申请公布号 | CN100446977C | 申请公布日期 | 2008.12.31 |
申请号 | CN200410056485.2 | 申请日期 | 2004.08.11 |
申请人 | 明基电通股份有限公司 | 发明人 | 李英尧 |
分类号 | B41J2/14(2006.01) | 主分类号 | B41J2/14(2006.01) |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 李宗明;杨梧 |
主权项 | 1.一种流体喷射装置,包括:一基底;一歧管,该歧管设置于该基底中,以供应流体;多个流体腔;以及多个喷孔,其特征在于,该流体喷射装置还包括:一形成于该基底上的结构层;以及一通道,形成于该歧管与每一流体腔之间;其中,所述多个流体腔具有相同长度,且形成于该基底与该结构层之间并与该歧管连通,以容纳要喷射的流体;并且所述多个喷孔穿过该结构层并与所述这些流体腔连通,以喷射流体。 | ||
地址 | 台湾省桃园县 |