| 发明名称 | 等离子体加工装置和等离子体加工方法 | ||
| 摘要 | 一种等离子体加工装置，其中当阳极电极和阴极电极的面积增大时，尽管发生电极挠曲仍可以获得良好的膜沉积性质。等离子体加工装置(100)包括室(15)、气体引入部(28)、排气部分(29)和高频电源单元(30)。在室(15)中配置平面阳极电极(第一电极)(4)、平面阴极电极(第二电极)(12)，以及用于可滑动地将电极(4、12)彼此平行地支撑的第一支撑(6)和第二支撑(5)。阴极电极(12)相对于阳极电极(4)配置。阳极电极(4)和阴极电极(12)分别简单地安装在第一支撑(6)和第二支撑(5)上，而没有通过螺钉等固定。当阳极电极(4)和阴极电极(12)在其自身重量下自由挠曲时，它们的挠曲量彼此相等，而且电极(4、12)的最大挠曲量也彼此相等。 | ||
| 申请公布号 | CN101336467A | 申请公布日期 | 2008.12.31 |
| 申请号 | CN200680051801.4 | 申请日期 | 2006.11.16 |
| 申请人 | 夏普株式会社 | 发明人 | 福冈裕介;岸本克史 |
| 分类号 | H01L21/205(2006.01);C23C16/509(2006.01) | 主分类号 | H01L21/205(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 吕晓章 |
| 主权项 | 1、一种等离子体加工装置，包括：反应室；气体引入部，将反应气体引入所述反应室；排气单元，将所述反应气体从所述反应室排出；第一电极和第二电极，支撑于所述反应室中并具有平板形状；以及第一支撑构件和第二支撑构件，支撑所述第一电极和第二电极以使所述第一电极和第二电极彼此面对，其中在所述第一电极和第二电极由所述第一支撑构件和第二支撑构件支撑的状态下，所述第一电极和第二电极的最大挠曲量，即在它们的自身重量下的最大下沉距离调整为彼此相等。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||