气雾剂产生设备、薄膜形成设备和气雾剂产生方法

摘要

气雾剂产生设备、薄膜形成设备和气雾剂产生方法。气雾剂产生设备包括：本体，它具有容纳材料粒子粉末的粉末容纳腔室和将载气引入到粉末容纳腔室中的引入口；粉末流动通道，它具有在粉末容纳腔室中都打开的入口开口和出口开口，入口开口位于在垂直方向上比出口开口低的位置处；和输送机构，它在从粉末流动通道的入口开口指向出口开口的方向上输送粉末。因此，提供的气雾剂产生设备使得能够通过适当减少在粉末容纳腔室中容纳的材料粒子的聚集来长时间稳定生产气雾剂。薄膜形成设备将气雾剂喷射到基板上以形成薄膜，且包括该气雾剂产生设备、薄膜形成器件和控制器。通过适当减少粉末容纳腔室中的材料粒子聚集体来长时间稳定产生或生产气雾剂。

主权项

1.一种气雾剂产生设备，所述气雾剂产生设备通过将材料粒子分散在载气中来产生气雾剂，所述气雾剂产生设备包括：本体，所述本体具有粉末容纳腔室和引入口，所述粉末容纳腔室容纳所述材料粒子的粉末，所述引入口形成在所述粉末容纳腔室中，并且经由所述引入口将所述载气引入到所述粉末容纳腔室中；粉末流动通道，所述粉末流动通道具有入口开口和出口开口，所述入口开口和所述出口开口都在所述粉末容纳腔室中打开，所述入口开口位于在垂直方向上比所述出口开口的位置低的位置处；以及输送机构，所述输送机构在从所述粉末流动通道的所述入口开口指向所述出口开口的方向上输送在所述粉末流动通道中容纳的粉末。