发明名称 |
聚合物和低聚物,它们的合成方法以及含有它们的电子设备 |
摘要 |
本发明涉及聚合物和低聚物,它们的合成方法以及含有它们的电子设备。所述聚合物和低聚物分别具有如说明书所示的聚合物1-9和低聚物1-13的结构。 |
申请公布号 |
CN101333188A |
申请公布日期 |
2008.12.31 |
申请号 |
CN200810091011.X |
申请日期 |
2002.03.12 |
申请人 |
俄亥俄州大学 |
发明人 |
A·埃普斯坦;D·王 |
分类号 |
C07D213/24(2006.01);C07D213/30(2006.01);C07D213/53(2006.01);C07D215/12(2006.01);C07C15/58(2006.01);C08G61/12(2006.01);C08G73/00(2006.01) |
主分类号 |
C07D213/24(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
刘冬;李平英 |
主权项 |
1.一种含有以下通式结构的低聚物的组合物:<img file="A2008100910110002C1.GIF" wi="1097" he="655" />其中:R1取代基独立选自氢、烷基、烷氧基和芳基;R2取代基独立选自氢、烷基、烷氧基和芳基;R3取代基独立选自氢、烷基、烷氧基和芳基;R4取代基独立选自氢、烷基、烷氧基和芳基;R5取代基独立选自氢、烷基、烷氧基和芳基;其中键A和B彼此间可为邻位、间位或对位;其中键C可位于各喹啉基氮的邻位、间位或对位;其中键D可位于各喹啉基氮的邻位、间位或对位。 |
地址 |
美国俄亥俄州 |