发明名称 用于制造微加工装置压电薄膜的方法
摘要 一种用于制造MEMS装置的方法,包括提供一个基片,该基片具有一个背侧、一个与背侧相反的前侧和一个外周部分。预期的微结构形成在基片背侧。然后,基片被支承着旋转。一种前体溶液在旋转过程中被沉积在基片前侧,以形成薄膜层,在形成薄膜层的过程中,基片被支承并旋转,形成在背侧的微结构被保护着。
申请公布号 CN100448046C 申请公布日期 2008.12.31
申请号 CN200410063868.2 申请日期 2004.07.13
申请人 新加坡科技研究局 发明人 姚奎;何旭江;张健;桑迪拉让-山内格拉斐
分类号 H01L41/08(2006.01);B81B7/00(2006.01) 主分类号 H01L41/08(2006.01)
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 蔡胜利
主权项 1.一种用于制造微加工装置压电薄膜结构的方法,包括:提供基片;在基片的背侧形成微结构;在微结构形成之后,向基片的前侧沉积前体溶液并同时旋转基片,以便在该前侧上形成薄膜层;在旋转基片的过程中,前体溶液不接触微结构;通过退火使上述薄膜层结晶形成压电薄膜。
地址 新加坡新加坡城