发明名称 |
用于制造微加工装置压电薄膜的方法 |
摘要 |
一种用于制造MEMS装置的方法,包括提供一个基片,该基片具有一个背侧、一个与背侧相反的前侧和一个外周部分。预期的微结构形成在基片背侧。然后,基片被支承着旋转。一种前体溶液在旋转过程中被沉积在基片前侧,以形成薄膜层,在形成薄膜层的过程中,基片被支承并旋转,形成在背侧的微结构被保护着。 |
申请公布号 |
CN100448046C |
申请公布日期 |
2008.12.31 |
申请号 |
CN200410063868.2 |
申请日期 |
2004.07.13 |
申请人 |
新加坡科技研究局 |
发明人 |
姚奎;何旭江;张健;桑迪拉让-山内格拉斐 |
分类号 |
H01L41/08(2006.01);B81B7/00(2006.01) |
主分类号 |
H01L41/08(2006.01) |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 |
代理人 |
蔡胜利 |
主权项 |
1.一种用于制造微加工装置压电薄膜结构的方法,包括:提供基片;在基片的背侧形成微结构;在微结构形成之后,向基片的前侧沉积前体溶液并同时旋转基片,以便在该前侧上形成薄膜层;在旋转基片的过程中,前体溶液不接触微结构;通过退火使上述薄膜层结晶形成压电薄膜。 |
地址 |
新加坡新加坡城 |