聚合物陶瓷E－吸盘

摘要

本发明涉及用于夹持工作基底的聚合物陶瓷E－吸盘，包括三层，其中非导电层的介电常数选择成为吸盘提供总体低的电容。在吸盘组件中，与基底例如晶片接触的顶部介电层具有大于约5的介电常数，大于约1E6ohm.m的电阻率；但底部介电层具有小于约5的介电常数，大于约1E10ohm.m的电阻率。中间层具有电阻率小于约1ohm.m的导电层。静电吸盘可粘附于涂敷抗电弧电介质的散热器。散热器也可用作RF电极。散热器可提供有冷却剂和气体槽道以将冷却气体供应到晶片背部。散热器可具有供给通路以对静电吸盘内的分段电极充电。供给通路、供气孔和提升销用的通道可用陶瓷或聚合物衬里以防止对散热器的任何放电。静电吸盘用于在半导体工具中夹持工作基底如Si、GaAs、SiO₂等。

主权项

1.一种利用静电电荷固定工件的静电吸盘，该吸盘包括：顶部介电层，设计成与工件接触，所述顶层具有大约5至大约10的介电常数，并且具有在大约1E6 ohm.m至大约1E15ohm.m之间的电阻率；底部介电层，具有优选大约2至大约7的介电常数，并且具有大约1E12ohm.m至大约1E15ohm.m的电阻率；和中间层，具有大约1.5E-8ohm.m至大约1ohm.m的电阻率。