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发明名称
Brush for cleaning wafer
摘要
In a formulation of a wafer cleaning brush, forming a polymer solution with a plurality of nano-scale porogens or with a synthetic pore forming agent and curing the polymer solution to form a porous polymeric material.
申请公布号
US7469443(B2)
申请公布日期
2008.12.30
申请号
US20050032858
申请日期
2005.01.10
申请人
INTEL CORPORATION
发明人
LIOU HUEY-CHIANG;TREGUB ALEXANDER;MOINPOUR MANSOUR
分类号
B08B1/04
主分类号
B08B1/04
代理机构
代理人
主权项
地址
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