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发明名称
Cover for a heater stage of a plasma processing apparatus
摘要
申请公布号
USD583394(S1)
申请公布日期
2008.12.23
申请号
US20070281064F
申请日期
2007.06.14
申请人
TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人
OTA KINYA
分类号
主分类号
代理机构
代理人
主权项
地址
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