DEVICE FOR COATING SUBSTRATES DISPOSED ON A SUSCEPTOR

摘要

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten von Substraten mit einer in einem Reaktorgehäuse angeordneten Prozesskammer (1) und einem darin angeordneten, zweiteiligen, im Wesentlichen topfförmigen Suszeptor (2, 3), welcher mit seinem eine ebene Platte (2') aufweisenden Topfboden ein Suszeptoroberteil (2) und mit seiner Topfseitenwandung ein Suszeptorunterteil (3) ausbildet, wobei die äußere Seite (4) der Platte (2') des Suszeptoroberteils (2) nach oben zur Prozesskammer (1) weist und eine Auflagefläche für mindestens ein Substrat ausbildet, das Suszeptoroberteil (2) mit seinem Rand auf einem Stirnrand (3'') des Suszeptorunterteils (3) aufliegt, das Suszeptorunterteil (3) von einem Suszeptorträger (6) abgestützt wird, und unterhalb der Platte (2') Heizzonen (A,B,C) zum Aufheizen des Suszeptoroberteils (2) angeordnet sind. Zur gebrauchsvorteilhaften Weiterbildung, wird vorgeschlagen dass das Suszeptoroberteil (2) getrennt vom Suszeptorunterteil (3) aus der Prozesskammer (1) entnehmbar ist, und die Fuge zwischen dem Rand des Suszeptoroberteils (2) und dem Stirnrand (3'') des Suszeptorunterteils (3) als eine Wärmeleitungsbarriere ausgebildet ist.