| 主权项 |
1﹒一种制备下式化合物之方法:包括使式R─c─ c1之醯基卤与等莫耳量或略微过量之下式醛和 等莫耳量或略微过量之硷金属氰化物在一惰性有 机溶剂和水所成之两相混合液存在下及于0﹒1 ─10%莫耳(容积)之有机铵盐、有机鏻盐或 冠醚之相转移触媒存在下在20─50℃温度范 围内反应一段足能使反应完全之时间。 2﹒根据上述请求专利部份第一项制法,其中相转 移 触媒系氯化基﹒三乙基铵、碘化─甲基﹒ 三乙基铵、氯化基﹒三丙基铵、氯(溴或碘) 化回丁铵,氯化甲基﹒三癸醯基铵、溴化十六烷 基﹒三甲基铵、溴化基﹒三苯基鏻、溴化十六 烷基﹒三丁基鏻、15─冠─5,18─冠─6 ,二环己基─18─冠─6或二苯并─18─冠 ─6。 3﹒根据上述请求专利部份第1项用以制造下式化 合 物之方法:包括使下列所示由该(十)酸衍生之 醯基氯与等莫耳量或过量下式之醛。 和等莫耳 量或过量之硷金属氰化物如氰化钾或氰化钠在2 0─40℃温度范围内于水和一惰性有机溶剂( 如己烷、庚烷、环己烷、苯、甲苯、二甲苯、乙 酸乙酯、二氯甲烷、氯仿或1,2─二氯乙烷) 所成之混合液存在下及于0﹒1─10%莫耳( 容积)相转移触媒(如氯化基﹒二乙基铵、氯 化基﹒三丙基铵、氯化四丁基铵、溴化基﹒ 三苯基鏻、溴化十六烷基﹒三丁基鏻、18─冠 ─6或二环己基─18─冠─6)存在下起反应 历一段足可使反应完全之时间。 4﹒根据上述请求专利部份第3项之制法,其中溶剂 系二甲苯及触媒系氯化基﹒二乙基铵。 5﹒根据上述请求专利部份第1项用以制造下式化 合 物之方法:包括使下式之醯基氯。 5﹒等莫耳量或过量下式之醛和等莫耳量或过量之 硷 金属氰化物如氰化钾或氰化钠在20─40℃温 度范围内于水和一惰性有机溶剂(如己烷、庚烷 、环己烷、苯、甲苯、二甲苯、乙酸乙酯、二氯 甲烷、氯仿或1,2─二氯乙烷所成之混合液存 在下及于0﹒1─10%莫耳(容积)相转移触 媒(如氯化基﹒二乙基铵、氯化基﹒三丙基 铵、氯化四丁基铵、溴化基﹒三苯基鏻、溴化 十六烷基﹒三丁基鏻、18─冠─6或二环己基 ─18─冠─6)存在下起反应一段足可使反应 完全之时间。 6﹒根据上述请求专利部份第5项之制法,其中溶剂 系二甲苯及触媒系氯化基﹒二乙基铵。 |
