| 主权项 |
1﹒一个温度调节留汽除水闸,具有压力平衡的温度调节系件由挥发性流体操作,其特性为元件(2,2A,2B)有一开放的内空隙能在闸内汽化/冷凝并封离元件所在之围罩的内部;此围罩包含挥发性流体,当闸完全打开以支持元件时,挥发性流体充满元件外的围罩;当加热流体以驱动元件所带的阀构件(13)使闸关闭时,挥发性流体提供一压力使元件可移动;在闸完全关闭时,若更进一步的加热挥发性流体则元件采取一完全伏窝的状况。2﹒一留汽除水闸如请求专利部份第1项所示,其中温度调节元件为一伸缩箱(2)。3﹒一个如请求专利部份第1项所示之留汽除水闸,其中温度调节元件为多隔板的排置(2A、2B)。4﹒一个如请求专利部份第3项所示之留汽除水闸,其中有两个对立的隔板(23,24),两者为截头锥形。5﹒一个如请求专利部份第3项所示之留汽除水闸,其中有两个对立的隔板(23,24),两者为波纹状。6﹒一个如上述请求专利部份任一项所示之留汽除水闸,其中闸有一底座(1)上头形成一阀座(12)并且带了一个用以围包围罩(6)之围箱(8),温度调筛元件(2,2A,2B)即位于围罩内,底座亦带了一覆盖(18),覆盖内部封离大气界并包含围箱、围罩,和元件;阀构件(13)与元件之上端壁(4,24)牢接,上端壁靠着挥发性流体(15)的收缩与扩张而移上移下,元件的内空隙开放使其能通过围罩底壁(7)上之开孔(11)以汽化/冷凝,阀构架穿过开孔与阀座合作。7﹒一个如请求专利部份第6项所示之留汽除水闸,其中围箱(6)被弹性的整体驱动,其方向为使阀构件(13)移动而坐在阀座(12)上,并坐在与围箱牢接的临接处(8A)上。 |
