| 主权项 |
1﹒装备如下通式所示之一种化合物的方法式中,n 代表0.1或2;R1代表C1─C4烷基;丙 烯基;乙烯基;一CH2COCH3;一CH2 (O)mCH3式中,m代表0.1或2;单及 多卤基C1─C4烷基;R2及R3乃为相同或 不同之基元,各代表Y1及Y2乃为相同或不同 之基元,各代表氢原子、羟基、C1─C4烷氧 基、乙醯氧基、C1─C4烷基、Cl,F,C F3,NH2,─N(CH3)2,NO2,或 Y1及Y2共同形成一种二连氧亚甲桥;,设若 ,当n代表0.1或2,而Y1及Y2代表氢原 子时;R1不可代表乙烯基;设若,当R1代表 C1─C4烷基、C3─C4卤烷基而其内之卤 基取代位置乃在3或4位置者,丙烯基或丙酮基 时,Y1及Y2不可代表H;再设若当n代表0 ,而R1代表CH3时,Y1及Y2二者不可代 表P──C1或P─OCH3者。该方法系令如 下通式所示之一种化合物其中,R2及R3之定 义同前,与一种适宜之烷化剂起接触,随后,任 意地令如是形成之被取代的硫羟基咪唑化合物与 一种适宜之氧化剂起接触者。 2﹒制备如请求专利部份第1项所制取之化合物的 一 种方法,该方法系令如下通式所示之一种化合物 式中,P乃为一种适宜之防护性基元,先与一种 盐基,再与一种经氟化之烷次磺醯基卤化物,二 硫化物,或磺酐(RfSX或(RfSO2)2 o,其中,X=卤基或─SRf而Rf则为经氟 化之烷基)起接触,随后令如是形成之被取代的 硫羟基咪唑(假若RfSX被应用时)与一种适 宜之氧化剂起接触者。 |
