| 发明名称 |
FORMATION OF RESIST MASK HAVING RESISTANCE TO PLASMA ETCHING |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPS59153(A) |
申请公布日期 |
1984.01.05 |
| 申请号 |
JP19830089307 |
申请日期 |
1983.05.23 |
| 申请人 |
PHILIPS' GLOEILAMPENFABRIEKEN NV |
发明人 |
JIYOSEFU MEIYAA;DEBITSUDO JIYON BINTON |
| 分类号 |
C23F4/00;G03F7/26;G03F7/40 |
主分类号 |
C23F4/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
