METHOD OF MEASURING DEPTH OF MICRORELIEF,PRIMARILY IN SEMICONDUCTOR-BASED THIN LAYERS,申请号SU19823489662-传众专利搜索

发明名称	METHOD OF MEASURING DEPTH OF MICRORELIEF,PRIMARILY IN SEMICONDUCTOR-BASED THIN LAYERS
摘要
申请公布号	SU1073574(A1)	申请公布日期	1984.02.15
申请号	SU19823489662	申请日期	1982.07.12
申请人	VOLKOV VLADIMIR V,SU;GERASIMOV LEV L,SU;LARIONOV YURIJ V,SU	发明人	VOLKOV VLADIMIR V,SU;GERASIMOV LEV L,SU;LARIONOV YURIJ V,SU
分类号	G01B11/30;(IPC1-7):G01B11/30	主分类号	G01B11/30
代理机构		代理人
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