| 摘要 |
<p>PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA DEPOSITAR PELICULAS DE ALEACION SEMICONDUCTORA AMORFA SOBRE UN SUSTRATO.COMPRENDE LAS SIGUIENTES OPERACIONES: PRIMERA, SE PREVEE UNA FUENTE DE ENERGIA DE MICROONDAS; SEGUNDA, SE ACOPLA DICHA FUENTE DE ENERGIA DE MICROONDAS A UN RECIPIENTE DE REACCION SUSTANCIALMENTE CERRADO QUE CONTIENE EL SUSTRATO; Y POR ULTIMO, SE INTRODUCEN EN EL RECIPIENTE GASES DE REACCION, INCLUYENDO DICHOS GASES AL MENOS UN COMPUESTO QUE ES SEMICONDUCTOR, PARA FORMAR UN PLASMA DE DESCARGA LUMINOSA EN EL INTERIOR DE DICHO RECIPIENTE Y PARA DEPOSITAR UNA PELICULA SEMICONDUCTORA AMORFA.</p> |
