| 主权项 |
1.一种制备含三 基及恶唑 基二者之 羟芳族齐聚物之方法,其特征为(I ):令(A)至少一种物料其每分子 具有之芳族烃基平均大于1,与(B )对每个芳族羟基至少有0.01唯不 大于0.95莫耳氯化氰或溴化氰或其 混合物;在(C)适当的 其含量 0.01至1.1莫耳芳族羟基之存在下 于温度为从-40℃至60℃下反应 10分钟至120分钟然后回收所得之 氰酸酯混合物;(Ⅱ)于合宜的共聚 齐化触媒存在下,于温度为70℃至 350℃共齐聚化由(I)所得之产 物与(D)环氧树脂历时15分钟至 120分钟,其中环氧基对氰酸根基之 莫耳比为1:1至1:100。2.根据上述请求专利部份第1. 项之方法 ,其特点为该等组分(A)及(B) 存在量为对每个芳族羟基提供0.05 至0.55莫耳氯化氰或溴化氰或其混 合物:组分(C)存在量为对每莫耳 芳羟基提供0.05至0.6莫耳 :及 环氧基对氰酸根基之莫耳比为1:10 至1:40。3.根据请求专利部份第2.项之方法,其 特点为该组分(A)为说明书中式I 、Ⅱ或Ⅲ所代表之化合物;组分(C )为三烷胺,及组分(D)为说明书 中式Ⅳ或Ⅴ所代表者。4.根据上述请求专利部份 策3.项之方法 ,其特点为组分(A)为式Ⅱ所代表 之化合物:组分(C)为三乙胺;及 组分(D)为式Ⅳ所代表之环氧树脂。5.根据上述请 求专利部份第4.项之方法 ,其特点为组分(A)中A为C 二价烃基及n値为1;及组分(D) 中各A独立为C 二价烃基,n 之値为1及m 平均値为0至40。6.根据上述请求专利 部份第5.项之方法 ,其特点为组分(A)中A为亚异内 基;及组分(D)中A为亚异内基及 n 平均値为0.1至20。7.一种制备环氧树脂之方法,系 采习知 方式与环氧卤丙烷反应环氧化羟芳族 物料,继以 性作用物料脱氢卤化, 及最终回收结果所得之缩水甘油醚产 物;本法特点为该羟芳族物料为请求 专利部份第1.项方法中步骤(Ⅱ)所 得之共齐聚化产物。8.根据上述请求专利部份第7. 项之方法 ,其特点为该环氧卤丙烷为环氧氯内 烷及该性作用物料为 金属氢氧化 物。 |
