发明名称 |
MANUFACTURE OF PHOTORESIST PATTERN |
摘要 |
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申请公布号 |
JPS6186749(A) |
申请公布日期 |
1986.05.02 |
申请号 |
JP19850216311 |
申请日期 |
1985.10.01 |
申请人 |
AMERICAN HOECHST CORP |
发明人 |
JIYON DEIKARURO;DONARUDO MAMATO;JIYONASU SENTO ARUBAN;BURUUSU SUTEEBUNSU |
分类号 |
G03C1/72;G03C5/08;G03F7/022;G03F7/20;(IPC1-7):G03C5/08 |
主分类号 |
G03C1/72 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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