发明名称 MANUFACTURE OF PHOTORESIST PATTERN
摘要
申请公布号 JPS6186749(A) 申请公布日期 1986.05.02
申请号 JP19850216311 申请日期 1985.10.01
申请人 AMERICAN HOECHST CORP 发明人 JIYON DEIKARURO;DONARUDO MAMATO;JIYONASU SENTO ARUBAN;BURUUSU SUTEEBUNSU
分类号 G03C1/72;G03C5/08;G03F7/022;G03F7/20;(IPC1-7):G03C5/08 主分类号 G03C1/72
代理机构 代理人
主权项
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