| 发明名称 |
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION TREATMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS6326329(A) |
申请公布日期 |
1988.02.03 |
| 申请号 |
JP19860170163 |
申请日期 |
1986.07.18 |
| 申请人 |
NIPPON KOKAN KK <NKK> |
发明人 |
TAKADA YOSHIICHI;INAGAKI JUNICHI;TANAKA YASUSHI;ABE MASAHIRO |
| 分类号 |
C22C33/00;C23C10/28;C23C10/60;C23C16/02;C23C16/24 |
主分类号 |
C22C33/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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